Residual stress gradient of Cr and CrN thin films

D. F. Arias, A. Gómez, R. M. Souza, J. M. Vélez

Producción: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

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Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Residual stress gradient of Cr and CrN thin films'. En conjunto forman una huella única.

Keyphrases

Engineering

Material Science

INIS

Physics