Cálculo de la estructura fotónica de bandas de ópalos artificiales de silica coloidal y su crecimiento por el método de deposición sobre un sustrato vertical de cuarzo.

En este proyecto se propone, por una parte, el estudio del mecanismo de crecimiento de ópalos artificiales por el método de auto-ensamblado de deposición sobre un sustrato vertical de cuarzo en función de i) la concentración de silica en la suspensión coloidal, ii) pH de la fase continua y, iii) del grado de hidrofilicidad del sustrato, para aplicaciones en nano-sensonica y fotocatálisis. Por otra parta, se propone el cálculo teórico, por medio del método de expansión en ondas planas (PWEM, plane wave expansión method), de las propiedades ópticas de dichos ópalos artificiales.